随着计测技术、控制技术的进步和电子计算机的应用,卷绕式阳江真空镀膜机正向着高度自动化和高度可靠性的方向发展

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-12-05 5:49:23 * 浏览: 0

阳江真空电镀基材卷筒的卷径是1000mm,卷绕速度750m/min自动装卸的半连续卷绕式阳江真空镀膜机镀膜时间占整个周期的75%,辅助操作时间只占25%。效率更高的从大气到大气的卷绕式阳江真空镀膜机已于1977年出售。随着计测技术、控制技术的进步和电子计算机的应用,卷绕式阳江真空镀膜机正向着高度自动化和高度可靠性的方向发展。卷绕式阳江真空镀膜机能够沉积的镀膜层厚度范围为0.01-0.2mu,m,可以在这个范围内选择,有的还可以镀多层膜,满足多种需要。日本专利提出沉积两种不同镀膜材料的卷绕式蒸镀装置。该装置的真空室(6)分为上室(7),左下室(8)和右下室(9)。蒸镀时,两组蒸发源(19、23)蒸发的镀膜材料(21、25)分别沉积在塑料薄膜(11)上,在塑料薄膜没有蒸镀的一侧,装上辉光放电发生器(、16)。发生器产生的辉光放电气体能防止塑料薄膜起皱。使用这套装置可以在极薄的塑料薄膜上镀上无折皱的多层膜,用于制磁带和薄膜太阳能电池等。该装置示意图见图1图1改进的卷绕式蒸镀装置近年来,高速低温溅射法发展很快,使高熔点金属如铬、钛、钨、钼等的沉积成膜成为可能。

阳江真空镀膜离子镀应用领域见表10-14。

阳江表面处理③基板温度较低,较容易控制其不足是:由于真空度高,绕射性较差;要求频率源与电极之间需有匹配箱,并随镀膜参数变化而调节;蒸发源与频率源之间易产生干扰;射频对人体有害,需加防护。。

阳江五金烤漆我国阳江真空镀膜设备研制始于20世纪50年代,当时研制了各种蒸发式阳江真空镀膜设备,满足了光学事业发展需要进入上世纪70年代以后,由于国民经济各种领域的需求,各类阳江真空镀膜设备得到了长足的发展。目前各类镀膜设备基本齐全,种类繁多,满足了各行业的需要。阳江真空镀膜设备主要类型有真空蒸发镀膜设备、磁控溅射镀膜设备、离子镀膜设备、化学气相沉积镀膜设备等。各类镀膜设备及生产厂家见表10-31。。

阳江塑胶喷涂蒸发镀各种坩埚材料性能见表10-6。

13、发射、零点、测量旋钮”9”旋转至指向零点位置14、旋转零点调节钮”10”,让高压真空表”5”内指针指向0位置。15、发射、零点、测量旋钮”9”旋转至指向测量位置。16、旋转标准调节钮”3”,让高压真空表”5”内指针指向10。17、旋转”倍加器”开关钮”8”至指向10-12,当高压真空表”5”内指针逆时针左移超过1时,再把”倍加器”开关旋钮”8”旋转至指向10-3。18、当高压真空表”5”内指针逆时针移动超过6.7Pa时,开工件旋转钮开关,钟罩内被镀件PVDF膜转动。19、开蒸发钮开关。把电流分插塞插入蒸发电极分配孔内(设有1、2、3、4孔,可插入任意一孔)。20、右手旋转右侧调压器手轮,慢慢旋转升压。a、从视镜窗口观察钨螺旋加热子的加热温度颜色变化情况。b、当钨螺旋加热子颜色变成黄橙色,铝丝开始熔化时,左手操作挡板钮,移开钨螺旋上方挡板。

减压CVD法可制备Si02膜、PSG(硅酸磷玻璃)膜、BSG(硅酸硼玻璃)膜、AsSG(硅酸砷玻璃)膜、Si3H4膜及Al203等绝缘膜主要用于半导体器件制造上。表10-20给出了绝缘膜种类、制作方法及用途。图10-31为热壁反应室结构简图,减压装置的工作压力为10Pa~1000Pa。。

此装置原理图如图10-30所示采用高频加热,温度可达1300℃mdash,1800℃,膜生长速率为0.2mu,m/min~1.0mu,m/min。。

在真空氛围中,荷能粒子或粒子束入射到固体表面(靶)上,使靶表层原子获得部分能量,当其动能超过周围原子形成的势垒(对于金属是5eVmdash,lOeV)时,这种原子由从晶格阵点中被碰出来,进入真空中,这种现象谓之溅射由于离子易于被电磁场加速或偏转,故真空溅射镀均选择离子束轰击靶材.使其原子被溅射出来沉积到基片上形成薄膜。每个离子溅射产额不仅与入射离子能量、入射角、离子质量有关,同时还与靶材种类、原子序数、靶面原子结合状态以及结晶取向有关。一般产额为0.1mdash,10(原子离子),大部原子能量小于20eV,并且为中性据多。    原子溅射产额与入射离子能量有关,只有离子能量超过溅射阈值能量时才能发生溅射。当离子能量超过阈值后,随着离子能量增加,在150eV以前,溅射产额与离子能量平方成正比;在150eVmdash,1keV范围与离子能量成正比,在1keV~10keV范围内基本不变。当用惰性气体氩离子及氖离子轰击靶材时,由于能量不同,溅射产额亦不同。    表10-8给出了500eV的离子溅射产额。    各种溅射方法镀膜原理及特点由表10-9给出。。

阳江真空镀膜设备型号编制方法: